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一种化学机械抛光液及其应用
审中-公开

申请号:201410856725.0 申请日:2014-12-29
摘要:本发明涉及一种化学机械抛光液及其应用,该抛光液含有研磨颗粒、氨基硅烷试剂和水。本发明适合于硅通孔(TSV)工艺中阻挡层的抛光,还可用于集成电路铜互连制程中的阻挡层抛光、二氧化硅层间介质抛光和浅槽隔离层抛光,在较温和的条件下具有高的阻挡层去除速率,较高的平坦化效率。抛光液可制备高浓缩的产品,不但可以有效降低成本,还便于储存和运输。
申请人: 安集微电子(上海)有限公司
地址: 201203 上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层以及第3层的部分区域
发明(设计)人: 陈宝明 高嫄 荆建芬 姚颖 潘依君 邱腾飞 王春梅
主分类号: C09G1/02(2006.01)I
分类号: C09G1/02(2006.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种化学机械抛光液,其中,所述抛光液包含研磨颗粒、氨基硅烷试剂和水。
公开号  105802510A
公开日  2016-07-27
专利代理机构  上海翰鸿律师事务所 31246
代理人  李佳铭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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