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一种化学机械抛光液及其应用
审中-公开

申请号:201410842110.2 申请日:2014-12-29
摘要:本发明提到的抛光液对氧化硅具有非常高的抛光速度。通过含硅的有机化合物和两性表面活性剂的协同作用,实现了化学机械抛光液的高研磨速率和解决抛光液稳定性的问题。
申请人: 安集微电子(上海)有限公司
地址: 201203 上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层,以及第3层的部分区域
发明(设计)人: 高嫄 荆建芬 姚颖 宋凯 蔡鑫元 潘依君
主分类号: C09G1/02(2006.01)I
分类号: C09G1/02(2006.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种化学机械抛光液,其包括含硅化合物、两性表面活性剂、二氧化硅研磨颗粒以及水。
公开号  105802507A
公开日  2016-07-27
专利代理机构  上海翰鸿律师事务所 31246
代理人  李佳铭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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