搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

电化学抛光装置及方法
审中-实审

申请号:201410067707.4 申请日:2014-02-26
摘要:本发明揭示了一种电化学抛光装置,包括晶圆夹盘和喷嘴,晶圆夹盘开设有数个晶圆凹槽,数个晶圆凹槽均匀分布在晶圆夹盘的圆心至晶圆夹盘的外边缘之间。数个晶圆凹槽的直径相等,数个晶圆凹槽的圆心分布在以晶圆夹盘的圆心为中心的同心圆上,且每一个晶圆凹槽的圆心位于晶圆夹盘的圆心至晶圆夹盘的外边缘的半径的中点上。晶圆夹盘和喷嘴相对线性运动。本发明还提出一种使用电化学抛光装置抛光晶圆的方法,适用上述的电化学抛光装置包括晶圆夹盘和喷嘴,在抛光晶圆时,使夹持有数片晶圆的晶圆夹盘和喷嘴相对线性运动,运动范围在晶圆夹盘的圆心与晶圆夹盘的外边缘之间或晶圆凹槽的直径范围内。
申请人: 盛美半导体设备(上海)有限公司
地址: 201203 上海市浦东新区张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢
发明(设计)人: 金一诺 王坚 王晖
主分类号: C25F3/30(2006.01)I
分类号: C25F3/30(2006.01)I
  • 法律状态
2017-03-01  实质审查的生效 IPC(主分类):C25F 3/30申请日:20140226
2015-08-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种电化学抛光装置,其特征在于,包括晶圆夹盘和喷嘴,所述晶圆夹盘开设有数个晶圆凹槽,数个晶圆凹槽均匀分布在晶圆夹盘的圆心至晶圆夹盘的外边缘之间,所述晶圆夹盘和喷嘴相对线性运动。
公开号  104862772A
公开日  2015-08-26
专利代理机构  上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人  陆嘉
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期