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有机西瓜种植的方法
审中-实审

申请号:201310313331.6 申请日:2013-07-24
摘要:本发明公开了一种有机西瓜种植的方法,主要包含以下过程:开沟、在沟中填充基质和栽培层、打畦、浇水、点种、嫁接、整枝、留瓜和育瓜期管理,用本发明的方法种植的西瓜,不仅质优,而且个大,普遍个体重量可达30~50Kg,重的则可达到70Kg以上,糖度可达11.5以上,最高超过14,特别是耐储运,经试验,本发明的方法所种植的西瓜成熟摘下后,在20~25℃环境下一般可存放30~50天。
申请人: 赵效东
地址: 833000 新疆维吾尔自治区博********(隐藏)
发明(设计)人: 赵效东
主分类号: A01G1/06(2006.01)I
分类号: A01G1/06(2006.01)I A01G1/00(2006.01)I
  • 法律状态
2016-08-17  实质审查的生效IPC(主分类):A01G 1/06申请日:20130724
2013-12-04  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种有机西瓜种植的方法,其特征在于主要包含以下过程:开沟:在瓜地中开宽100~120cm、深80?~120cm的沟;填充基质:在沟中的填入60~80cm厚度的基质,所述的基质为:1重量份猪、牛、马、羊、鸡或鸭的圈肥中的任意一种或几种的混合物0.75~2.0重量份土,在施入时按沟的长度施入3~5Kg/m的硫酸钾复合肥;栽培层:在基质层上部填充厚度20~40cm的栽培层,所述栽培层为:1重量份羊粪或鸡粪中的一种或两种的任意比例的混合物配0.5~2重量份土,在施入时按沟的长度施入0.5~1Kg/m的磷酸式盐二铵;打畦:在上述的沟上打两道25~30cm高的埂,埂距100~120cm;浇水:浇透水;点种:浇水后第2天后即可进行点种:种穴距离200~400cm,每穴中点3~5粒西瓜籽和6~8粒葫芦籽或瓠子籽,下种深度3~5cm;嫁接:出苗后,以西瓜作为接穗,以葫芦苗或瓠子苗作为砧木,将一株西瓜苗嫁接于一株以上的葫芦苗或瓠子苗上,嫁接成活后,再将2~3株成活的西瓜苗相互嫁接,成活后进行间苗,每穴保留一株西瓜苗;整枝:生长过程中,每株保留3~5个蔓,多余瓜叉全部打掉,并及时压蔓;留瓜:当瓜蔓生长到150~300片瓜叶时开始留瓜:选择长势健壮、瓜形端正的瓜胎留瓜,每株留瓜1~4个;育瓜期管理:按常规种植方法进行管理直至西瓜成熟。
公开号  103416228A
公开日  2013-12-04
专利代理机构  石河子恒智专利代理事务所 65102
代理人  李伯勤
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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