搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置
有权
阅读授权文献

申请号:201310290506.6 申请日:2013-07-11
摘要:本发明公开了一种基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置,所述装置包括基底、依次位于基底上的第一金属层、绝缘体层和第二金属层,所述第一金属层、绝缘体层和第二金属层构成若干等离子谐振腔,所述等离子激元光谱吸收装置具有若干基于纳米压印技术压印而成的压缩腔,压缩腔之间形成有若干光栅结构,所述光栅周期至少在沿X方向或Z方向或同时两个方向上是线性啁啾的。本发明通过适当调整光栅啁啾系数和上金属层/绝缘体层/下金属层谐振腔的模压深度来实现和拓宽整个禁带的带宽,给实现低且平坦的反射禁带提供了可能。在相位匹配和亚波长尺寸的限制条件下,通过适当的设计,可以实现宽带的近完美吸收。
申请人: 苏州大学
地址: 215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明(设计)人: 王钦华 宋艳芹 楼益民 曹冰 李孝峰
主分类号: G02B5/18(2006.01)I
分类号: G02B5/18(2006.01)I G02B5/22(2006.01)I
  • 法律状态
2015-09-30  授权
2013-10-30  实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/18申请日:20130711
2013-09-25  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置,所述装置包括基底、依次位于基底上的第一金属层、绝缘体层和第二金属层,所述第一金属层、绝缘体层和第二金属层构成若干等离子谐振腔,其特征在于,所述等离子激元光谱吸收装置具有若干基于纳米压印技术压印而成的压缩腔,压缩腔之间形成有若干光栅结构,所述光栅周期至少在沿X方向或Z方向或同时两个方向上是线性啁啾的。
公开号  103323896A
公开日  2013-09-25
专利代理机构  北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人  常亮
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期