搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法
有权
阅读授权文献

申请号:201310195128.3 申请日:2013-05-23
摘要:本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法,可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构,同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括:弹性模板电极简单微结构的设计与制备,以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构;模板电极上应力屈曲的产生及其控制,以使模板电极可控地产生屈曲形变;屈曲结构的复制,利用约束刻蚀技术使模板电极上屈曲得到的多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。
申请人: 厦门大学
地址: 361000 福建省厦门市思明南路422号
发明(设计)人: 詹东平 张杰 田中群 贾晶春 韩联欢 袁野 田昭武
主分类号: H01L21/3063(2006.01)I
分类号: H01L21/3063(2006.01)I B81C1/00(2006.01)I C25F3/12(2006.01)I
  • 法律状态
2015-09-09  授权
2013-10-30  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3063申请日:20130523
2013-09-25  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法,所述方法包括: 具有简单微结构的弹性模板电极的设计与制备,以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构; 屈曲的产生及其调控,以使模板电极可控的屈曲产生所需的复杂三维多级微纳结构;以及 屈曲结构的复制,以使模板电极上屈曲得到的复杂多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。
公开号  103325674A
公开日  2013-09-25
专利代理机构  厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204
代理人  张松亭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期