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将多种反应气体依次向基板供给的成膜装置
有权
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申请号:200910172125.1 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种将多种反应气体依次向基板供给的成膜装置,在真空容器内供给第1及第2反应气体来形成薄膜,其具有:旋转台;第1反应气体供给部及第2反应气体供给部,其分别在以旋转中心为圆心的第1角度位置和第2角度位置沿径向延伸;第1分离气体供给部,其设置在第1角度位置和第2角度位置之间的第3角度位置;第1空间,其在包含第1角度位置的区域具有第1高度;第2空间,其在包含第2角度位置的区域具有第2高度;第3空间,其在包含第3角度位置的区域具有低于第1高度和第2高度的高度;加热装置,其加热第1分离气体。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 加藤寿 本间学
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/316(2006.01)I
  • 法律状态
2013-04-24  授权
2011-07-06  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,在真空容器内,将基板依次暴露于包 含第1反应气体和第2反应气体的至少两种反应气体中,进行成 膜,其特征在于,具有: 真空容器,其具有顶板; 旋转台,其以能绕旋转中心旋转的方式设置在所述真空容 器内,具有用于载置基板的基板载置部; 第1反应气体供给部和第2反应气体供给部,其分别在以所 述旋转中心为圆心的第1角度位置和第2角度位置处沿径向延 伸,以供给所述第1反应气体和所述第2反应气体; 第1分离气体供给部,其在位于所述第1角度位置和所述第 2角度位置之间的第3角度位置处沿径向延伸,以供给用以将所 述第1反应气体和所述第2反应气体分离开的第1分离气体; 所述顶板的第1下表面区域,其是包含所述第1角度位置的 区域的至少一部分,距所述旋转台的高度为第1高度,从而在 所述旋转台上侧形成具有所述第1高度的第1空间; 所述顶板的第2下表面区域,其是包含所述第2角度位置的 区域的至少一部分,距所述旋转台的高度为第2高度,从而在 所述旋转台上侧形成具有所述第2高度的第2空间; 所述顶板的第3下表面区域,其是包含所述第3角度位置的 区域的至少一部分,距所述旋转台的高度为低于所述第1高度 和所述第2高度的第3高度,从而在所述旋转台上侧形成具有所 述第3高度的第3空间; 加热装置,其对所述第1分离气体进行加热; 第2分离气体供给部,其在包含所述旋转中心的中心部区 域,供给用以将所述第1反应气体和所述第2反应气体分离开的 第2分离气体; 排气口,其将所述第1反应气体和第2反应气体,连同向所 述第3空间两侧喷出的第1分离气体和从所述中心部区域喷出 的所述第2分离气体一起排出。
公开号  101665926
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227027
国际申请  
国际公布  
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