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成膜装置、成膜方法
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申请号:200910172124.7 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜装置、成膜方法。该成膜装置包括:能旋转地设置在容器内的基座;设置在基座的一个面上的基板载置区域;包括能够独立控制的多个加热部、加热基座的加热单元;对一个面供给第一反应气体的第一反应气体供给部;与第一反应气体供给部分开、对一个面供给第二反应气体的第二反应气体供给部;位于被供给第一反应气体的第一处理区域和被供给第二反应气体的第二处理区域之间的分离区域;位于容器的中央的、具有沿一个面喷出第一分离气体的喷出孔的中央区域;以及排气口。分离区域包括:供给第二分离气体的分离气体供给部;以及用于在基座上形成第二分离气体相对于旋转方向向两个方向流动的狭窄的空间的顶面。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 加藤寿 小原一辉 本间学
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I
  • 法律状态
2014-12-03  授权
2011-07-13  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,在容器内执行将相互反应的至少两种反 应气体按顺序供给到基板上的循环来在该基板上生成反应生成 物的层,由此沉积膜,该成膜装置包括: 基座,其能旋转地设置在上述容器内; 基板载置区域,其设置在上述基座的一个面上,用于载置 上述基板; 加热单元,其包括能够独立控制的多个加热部,用于对上 述基座进行加热; 第一反应气体供给部,其构成为对上述一个面供给第一反 应气体; 第二反应气体供给部,其沿上述基座的旋转方向离开上述 第一反应气体供给部,构成为对上述一个面供给第二反应气体; 分离区域,其沿上述旋转方向位于被供给上述第一反应气 体的第一处理区域和被供给上述第二反应气体的第二处理区域 之间,用于分离上述第一处理区域和上述第二处理区域; 中央区域,其为了分离上述第一处理区域和上述第二处理 区域而位于上述容器的大致中央,具有沿上述一个面喷出第一 分离气体的喷出孔;以及 排气口,其为了对上述容器进行排气而设置在上述容器内, 其中,上述分离区域包括:分离气体供给部,其供给第二 分离气体;以及顶面,其与上述基座的上述一个面相对而形成 狭窄的空间,在该狭窄的空间内上述第二分离气体能够从上述 分离区域流向上述处理区域侧。
公开号  101665925
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 陈立航
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227023;2008.9.4 JP 2008-227025;2008.9.4 JP 2008-227026
国际申请  
国际公布  
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