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成膜装置及基板处理装置
有权
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申请号:200910172122.8 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜装置及基板处理装置,该成膜装置具有:旋转台、从旋转台的周缘朝向旋转中心设置的第1反应气体供给部和第2反应气体供给部、设置于该第1反应气体供给部和第2反应气体供给部之间的第1分离气体供给部。该成膜装置中形成有:包含第1反应气体供给部且具有第1高度的第1空间、包含该第2反应气体供给部且具有第2高度的第2下表面区域、包含第1分离气体供给部且具有第3高度的第1空间,该第3高度低于第1高度和第2高度。设置在旋转台的旋转中心下方的电动机驱动旋转台旋转。旋转台的旋转轴和电动机的驱动轴以不发生空转的方式连接。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 加藤寿 本间学 羽石朋来
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/316(2006.01)I
  • 法律状态
2013-07-24  授权
2011-07-13  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,在真空容器内,按顺序供给包含第1反 应气体和第2反应气体的至少两种原料气体,并通过实施按顺 序供给所述至少两种所述原料气体的供给循环来形成薄膜,其 特征在于,具有: 旋转台,其设置在所述真空容器内并能在真空容器内旋转, 且具有载置基板的基板载置部; 第1反应气体供给部和第2反应气体供给部,其用于供给所 述第1反应气体和所述第2反应气体,且各自从所述旋转台的周 缘上的不同位置朝向旋转中心设置; 第1分离气体供给部,其从所述旋转台周缘上的位于所述 第1反应气体供给部和所述第2反应气体供给部之间的位置,朝 向旋转中心设置,以便供给将所述第1反应气体和所述第2反应 气体分离开的第1分离气体; 第1下表面区域,其是所述真空容器顶板下表面上包含所 述第1反应气体供给部的部分,距所述旋转台的高度为第1高 度; 第1空间,其形成于所述第1下表面区域和所述旋转台之 间; 第2下表面区域,其是所述真空容器顶板下表面上包含所 述第2反应气体供给部的部分,位于和所述第1下表面区域隔开 的位置,距所述旋转台的高度为第2高度; 第2空间,其形成于所述第2下表面区域和所述旋转台之 间; 第3下表面区域,其是所述顶板下表面上的、包含所述第1 分离气体供给部、且沿所述旋转台的旋转方向位于所述第1分 离气体供给部两侧的部分,距所述旋转台的高度为比所述第1 高度和所述第2高度都要低的第3高度; 狭窄的第3空间,其形成于所述第3下表面区域和所述旋转 台之间,具有用于使从所述第1分离气体供给部流出的所述第1 分离气体流入所述第1空间和所述第2空间的所述第3高度; 中心部区域,其是所述顶板的下表面上的设置有第2分离 气体供给部的部分,该第2分离气体供给部用于向所述旋转台 的旋转中心的所述基板载置部侧,供给用于将所述第1反应气 体和所述第2反应气体分离开的第2分离气体; 排气口,其将所述第1反应气体和所述第2反应气体,连同 向所述第3空间按两侧喷出的所述第1分离气体和自所述中心 部区域喷出的所述第2分离气体一起排出; 电动机,其设置在所述旋转台的旋转轴的下方,驱动所述 旋转台旋转, 并且,所述旋转台的旋转轴和所述电动机的驱动轴以不发 生空转的方式连接。
公开号  101665924
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227028
国际申请  
国际公布  
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