搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

成膜装置、基板处理装置及成膜方法
无权-视为撤回

申请号:200910172121.3 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜装置、基板处理装置及成膜方法,成膜装置包含以可旋转的方式设置在在容器内的旋转台。第1及第2反应气体供给部分别向旋转台的一个面供给第1反应气体及第2反应气体。向位于被供给第1反应气体的第1处理区域和被供给第2反应气体的第2处理区域之间的分离区域,从分离气体供给部喷出第1分离气体。分离区域设有顶面,在顶面和旋转台之间形成有用于使分离气体从分离区域向处理区域一侧流动的狭窄空间。在基板载置部设置有用于升降基板的升降机构。升降机构相对于旋转台而言,既能在上下方向上移动,又能沿旋转台的径向移动。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 本间学
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/316(2006.01)I
  • 法律状态
2014-04-02  发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C23C 16/455申请公布日:20100310
2011-07-06  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,在容器内,实施依次向基板供给相互 反应的至少两种反应气体的循环,在该基板上生成反应生成物 的层,以沉积膜,其特征在于,该成膜装置包括: 旋转台,其以能旋转的方式设在所述容器中; 基板载置区域,其设在所述旋转台的一个面上,用于载置 所述基板; 第1反应气体供给部,其向所述旋转台的所述一个面供给 第1反应气体; 第2反应气体供给部,其在所述旋转台的旋转方向上远离 所述第1反应气体供给部,且向所述旋转台的所述一个面供给 第2反应气体; 分离区域,其在所述旋转方向上,位于被供给所述第1反 应气体的第1处理区域和被供给所述第2反应气体的第2处理区 域之间,分离所述第1处理区域和所述第2处理区域; 中央区域,为了将所述第1处理区域和所述第2处理区域隔 离开,该中央区域位于所述容器的大致中央,且具有沿所述旋 转台的所述一个面喷出第1分离气体的喷出孔; 排气口,其用于将所述反应气体与扩散到所述分离区域两 侧的分离气体及从所述中央区域喷出的分离气体一起排出; 分离气体供给部,其设在所述分离区域,用于供给分离气 体; 顶面,其设在所述分离区域,位于所述分离气体供给部的 所述旋转方向两侧,在该顶面和所述旋转台之间形成狭窄的空 间,用于使分离气体从该分离区域流到处理区域侧; 升降机构,其用于对设置在所述基板载置部上的所述基板 进行升降, 所述升降机构相对于所述旋转台不仅能在上下方向上移 动,还能在旋转台的径向上移动。
公开号  101665923
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227032;2009.8.4 JP 2009-181807
国际申请  
国际公布  
进入国家日期