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成膜装置、基板处理装置及旋转台
无权-视为撤回

申请号:200910172116.2 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜装置、基板处理装置及旋转台。通过进行多次将相互反应的至少两种反应气体依次供给到基板表面上的循环,层叠反应生成物而形成薄膜。该成膜装置包括:设于真空容器内的旋转台;为了将基板载置在旋转台的同一圆周上而设于旋转台上的多个基板载置部;第1反应气体供给部件;第2反应气体供给部件;分离气体供给部件;能以在旋转台的中心部周边上下夹着旋转台的方式压接固定旋转台的上部固定构件及下部固定构件,上部固定构件由石英或陶瓷形成。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 加藤寿 本间学 羽石朋来
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/316(2006.01)I H01L21/683(2006.01)I
  • 法律状态
2014-04-02  发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C23C 16/455申请公布日:20100310
2011-07-13  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,在真空容器内将相互反应的至少两种反 应气体按顺序供给到基板的表面上且执行该供给循环,从而层 叠多层反应生成物的层而形成薄膜,该成膜装置包括: 旋转台,其设置在上述真空容器内; 基板载置区域,其为了将基板载置在上述旋转台上而设置; 第1反应气体供给部件,其用于向上述旋转台的上述基板 的载置区域侧的面供给第1反应气体; 第2反应气体供给部件,其设置为沿上述旋转台的旋转方 向离开上述第1反应气体供给部件,用于向上述旋转台的上述 基板的载置区域侧的面供给第2反应气体; 分离区域,其为了分离被供给上述第1反应气体的第1处理 区域和被供给第2反应气体的第2处理区域的气氛,而在上述旋 转方向上位于第1、第2处理区域之间;该分离区域包括顶面和 用于供给分离气体的分离气体供给部件,该顶面位于上述分离 气体供给部件的上述旋转方向两侧,在顶面与旋转台之间形成 有用于使分离气体从该分离区域向处理区域侧流动的狭窄的空 间; 中心部区域,其为了分离上述第1处理区域和上述第2处理 区域的气氛而位于真空容器内的中心部,且形成有用于将分离 气体喷出到旋转台的基板载置面侧的喷出孔; 排气口,其用于将上述反应气体与扩散到上述分离区域的 两侧的分离气体以及从上述中心部区域喷出的分离气体一起排 出; 上部固定构件及下部固定构件,能以在上述旋转台的中心 部周边上下夹着上述旋转台的方式压接固定上述旋转台, 上述上部固定构件由石英或陶瓷形成。
公开号  101665920
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227029;2009.8.4 JP 2009-181806
国际申请  
国际公布  
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