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成膜装置、基板处理装置、成膜方法
无权-视为撤回

申请号:200910172115.8 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜装置、基板处理装置、成膜方法。该成膜装置是在真空容器(1)内供给第1和第2反应气体来形成薄膜的成膜装置,包括:旋转台;从旋转台的周缘朝向旋转中心设置的第1反应气体供给部和第2反应气体供给部;设于第1反应气体供给部和第2反应气体供给部之间的第1分离气体供给部;包括第1反应气体供给部并具有第1高度的第1空间;包括第2反应气体供给部并具有第2高度的第2空间;包括第1分离气体供给部并具有比第1高度和第2高度低的高度的第3空间;检测旋转台的旋转位置的位置检测部件;设于旋转台的周缘、被位置检测部件检测的被检测部。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 加藤寿 本间学 羽石朋来 相川胜芳
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/316(2006.01)I
  • 法律状态
2013-08-28  发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C23C 16/455申请公布日:20100310
2011-07-13  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,其在真空容器内将包括第1反应气体和 第2反应气体的至少两种原料气体按顺序供给并且进行上述至 少两种上述原料气体按顺序供给的供给循环,从而形成薄膜, 其特征在于, 包括: 旋转台,能旋转地设于上述真空容器内,具有载置基板的 基板载置部; 第1反应气体供给部和第2反应气体供给部,为了供给上述 第1反应气体和上述第2反应气体,分别从上述旋转台的周缘的 互相不同的位置朝向旋转中心设置; 第1分离气体供给部,为了供给分离上述第1反应气体和上 述第2反应气体的第1分离气体,从上述第1反应气体供给部和 上述第2反应气体供给部之间的上述旋转台的周缘位置朝向旋 转中心设置; 第1下表面区域,其是包括上述第1反应气体供给部的上述 真空容器的顶板的下表面,设于距上述旋转台的距离为第1高 度的位置; 第1空间,其形成在上述第1下表面区域和上述旋转台之 间; 第2下表面区域,其是包括上述第2反应气体供给部的上述 顶板的下表面,设于距上述旋转台的距离为第2高度的离开上 述第1下表面区域的位置; 第2空间,其形成在上述第2下表面区域和上述旋转台之 间; 第3下表面区域,其是包括上述第1分离气体供给部并沿着 上述旋转台的旋转方向位于上述第1分离气体供给部的两侧的 上述顶板的下表面,设于距上述旋转台低于上述第1高度和上 述第2高度的第3高度的位置; 狭窄的第3空间,其形成在上述第3下表面区域和上述旋转 台之间,具有供从上述第1分离气体供给部供给来的上述第1分 离气体在上述第1空间和上述第2空间中流动的上述第3高度; 位置检测部件,用于检测上述旋转台的旋转位置; 被检测部,其设于上述旋转台的周缘,被上述位置检测部 件检测; 中心部区域,其是上述顶板的下表面,设有第2分离气体 供给部,该第2分离气体供给部用于将分离上述第1反应气体和 上述第2反应气体的第2分离气体供给到上述旋转台的旋转中 心的上述基板载置部侧; 排出口,用于将上述第1反应气体和上述第2反应气体与喷 出到上述第3空间的两侧的上述第1分离气体和自上述中心部 区域喷出的上述第2分离气体一起排出。
公开号  101665919
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2008.9.4 JP 2008-227031;2009.6.2 JP 2009-133153
国际申请  
国际公布  
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