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成膜方法和成膜装置
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申请号:200910171078.9 申请日:2009-09-04
摘要:本发明提供一种成膜方法和成膜装置。该成膜装置不仅能够抑制成膜处理时产生颗粒,还能够以比现有技术中的清洁处理时高的温度进行清洁处理,因此,能够提高处理能力。用于在被处理体(W)的表面形成薄膜的成膜装置(12)包括:处理容器(14);用于在其上载置被处理体的氮化铝制的载置台(62);用于对被处理体进行加热的加热单元(66);与载置台对置、用于向处理容器内导入必要的气体的喷淋头部(18);和用于在处理容器内的清洁处理后的升温时向喷淋头部的周边部供给不活泼性气体的喷淋头周边部气体供给单元(22)。由此,清洁处理时生成的ALF类物质即使在载置台升温时形成颗粒并飞散,也不会附着于与其相对的喷淋头部。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 山﨑英亮 池田恭子 瀬川澄江 泽田郁夫
主分类号: C23C16/44(2006.01)I
分类号: C23C16/44(2006.01)I C23C16/34(2006.01)I C23C16/06(2006.01)I C23C16/08(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I H01L21/3205(2006.01)I
  • 法律状态
2011-08-17  授权
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/44申请日:20090904
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种成膜装置,其用于在被处理体的表面形成薄膜,其特征在 于,包括: 能够真空排气的处理容器; 氮化铝制的载置台,其设置在所述处理容器内,用于在其上载置 所述被处理体; 用于对所述被处理体进行加热的加热单元; 喷淋头部,其与所述载置台对置,用于向所述处理容器内导入必 要的气体;和 喷淋头周边部气体供给单元,其用于在所述处理容器内的清洁处 理后的升温时,向所述喷淋头部的周边部供给不活泼性气体。
公开号  101665918
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人  龙淳
颁证日  
优先权  2008.9.5 JP 2008-229073
国际申请  
国际公布  
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