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稳定脱硫石膏中HG(Ⅱ)的方法
无权-驳回

申请号:200910152897.9 申请日:2009-09-18
摘要:本发明涉及稳定脱硫石膏中HG(II)的方法。目前湿式石灰石-石膏法脱硫产生的脱硫石膏中存在HG等重金属,在石膏的加工、使用过程中会排放到环境中,存在安全隐患。本发明方法是在湿式石灰石-石膏法脱硫产生的脱硫石膏浆液中按HG2+的含量加入汞离子稳定剂,通过汞离子稳定剂与脱硫石膏浆液中的HG2+作用,形成稳定的汞离子螯合物,使汞离子稳定存在于形成的脱硫石膏中。所述的汞离子稳定剂为高分子重金属捕集沉淀剂DTCR或有机硫TMT。本发明方法可以大大减少脱硫石膏中HG2+的浓度,有效解决石膏在加工、使用过程中的二次污染问题。
申请人: 浙江大学
地址: 310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
发明(设计)人: 汤婷媚 徐新华 沃静静 徐江
主分类号: A62D3/00(2006.01)I
分类号: A62D3/00(2006.01)I B01D53/64(2006.01)I B01D53/80(2006.01)I
  • 法律状态
2011-11-23  发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):A62D 3/00公开日:20100310
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):A62D 3/00申请日:20090918
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、稳定脱硫石膏中Hg(II)的方法,其特征在于:该方法是在湿式石灰石- 石膏法脱硫产生的脱硫石膏浆液中加入汞离子稳定剂,通过汞离子稳定剂与脱 硫石膏浆液中的Hg2+作用,形成稳定的汞离子螯合物,使汞离子稳定存在于 形成的脱硫石膏中,具体方法是: 按照脱硫石膏浆液中Hg2+的含量加入汞离子稳定剂; 所述的汞离子稳定剂为高分子重金属捕集沉淀剂DTCR,反应式为 加入的高分子重金属捕集沉淀剂DTCR与脱硫石膏浆液中Hg2+的质量比为1~ 2∶1; 或有机硫TMT,反应式为 加入的有机硫TMT与脱硫石膏浆液中Hg2+的质量比为0.6~1∶1。
公开号  101664589
公开日  2010-03-10
专利代理机构  杭州求是专利事务所有限公司
代理人  杜军
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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