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具有刻蚀终止层的微机电系统(MEMS)器件
有权
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申请号:200880012714.7 申请日:2008-05-12
摘要:本发明说明了一种由已形成电路的衬底支撑的MEMS器件。该MEMS器件包括至少一个和电路相连的电极和至少一个由电极控制的可动单元。该MEMS器件进一步包括一层电极和电路上方基于半导体材料的保形保护层。在一个优选实施例中,该MEMS器件为微镜,半导体材料为包括SI、SIC、GE、SIGE、SINI和SIW的一组材料。
申请人: 石井房雄
地址: 美国加州
发明(设计)人: 石井房雄
主分类号: H01L21/00(2006.01)I
分类号: H01L21/00(2006.01)I
  • 法律状态
2011-11-16  授权
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/00申请日:20080512
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种MEMS器件,包括: 一个衬底; 上述衬底上的一个电路; 至少一个与上述电路相连的电极; 至少一个由上述电极控制的机械可动单元; 一层上述电极和上述电路之间的平面保护层; 其中上述保护层至少有一个穿通-孔,其中充满实现上述电极和上述电路电 互连的通孔。
公开号  101669192
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京天平专利商标代理有限公司
代理人  孙刚
颁证日  
优先权  2007.5.12 US 60/930,151;2008.1.17 US 12/009,389
国际申请  2008-05-12 PCT/US2008/006061
国际公布  2008-11-20 WO2008/140815 英
进入国家日期  2009.10.19