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研磨垫的制造方法
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申请号:200880012254.8 申请日:2008-05-09
摘要:本发明的目的在于提供制造能够防止漏浆、并且光学检测精度优良的研磨垫的方法。本发明的研磨垫制造方法,包括:在研磨层的研磨背面一侧形成用于注入光透过区域形成材料的沟的工序;通过在所述沟内注入光透过区域形成材料并使其固化而形成光透过区域的工序;和通过对研磨层的研磨表面一侧进行抛光而使所述光透过区域在研磨表面露出的工序。
申请人: 东洋橡胶工业株式会社
地址: 日本大阪府
发明(设计)人: 堂浦真人 广濑纯司 中村贤治 福田武司 佐藤彰则
主分类号: H01L21/304(2006.01)I
分类号: H01L21/304(2006.01)I B24B37/00(2006.01)I B24B37/04(2006.01)I
  • 法律状态
2016-09-21  专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/304登记生效日:20160831变更事项:专利权人变更前权利人:东洋橡胶工业株式会社变更后权利人:罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本大阪府变更后权利人:美国特拉华州
2012-05-23  授权
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20080509
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种研磨垫制造方法,包括:在研磨层的研磨背面一侧形成用 于注入光透过区域形成材料的沟的工序;通过在所述沟内注入光透过 区域形成材料并使其固化而形成光透过区域的工序;和通过对研磨层 的研磨表面一侧进行抛光而使所述光透过区域在研磨表面露出的工 序。
公开号  101669195
公开日  2010-03-10
专利代理机构  中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人  王海川 穆德骏
颁证日  
优先权  2007.5.16 JP 130535/2007
国际申请  2008-05-09 PCT/JP2008/058619
国际公布  2008-11-27 WO2008/143029 日
进入国家日期  2009.10.16