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在工艺室中对准电极以保护晶片的边缘附近区域内的禁止区的方法和装置
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申请号:200880011266.9 申请日:2008-02-07
摘要:在工艺室中建立位置关系。基座被配置有下电极表面以支撑晶片;而上电极具有下表面。装配在该基座上的驱动具有与该上电极连接的传动机构。置于该下表面上的夹具移动为该下电极的期望的定向。通过该上电极被该传动机构松散地连接至该驱动,该夹具将该期望的定向传递至该上电极。该传动机构变紧以维持该期望的定向,去除该夹具,并将工艺隔断插入部装配至该上电极。该驱动移动该上电极和该插入部,以在该上电极和该下电极上的该晶片之间限定非有效工艺区域,从而在围绕该中心区域的晶片边缘附近区域进行刻蚀时保护该晶片的中心区域。
申请人: 朗姆研究公司
地址: 美国加利福尼亚州
发明(设计)人: 格雷戈里·S·塞克斯顿 安德鲁·D·贝利三世 艾伦·M·舍普 约翰·D·博尼法
主分类号: H01L21/68(2006.01)I
分类号: H01L21/68(2006.01)I
  • 法律状态
2011-09-14  授权
2010-04-14  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/68申请日:20080207
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于在晶片工艺室中对准第一和第二间隔参考面的装置, 该装置包含: 夹具,其配置有上夹具参考面和平行于该上夹具参考面 的下夹具参考面,该下夹具参考面被配置为被支撑在该第一间 隔参考面上以将该下夹具参考面和该上夹具参考面定向为平 行于该第一间隔参考面,该上夹具参考面被配置为支撑该第二 间隔参考面以将该第二间隔参考面定向为平行于该上夹具参 考面并平行于该第一间隔参考面。
公开号  101669198
公开日  2010-03-10
专利代理机构  北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人  余刚 吴孟秋
颁证日  
优先权  2007.2.8 US 11/704,870
国际申请  2008-02-07 PCT/US2008/001761
国际公布  2008-08-14 WO2008/097662 英
进入国家日期  2009.10.09