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内圆切片机防护罩
无权-未缴年费
权利转移

Shield of inside diameter slicer

申请号:200820124585.8 申请日:2008-12-25
摘要:本实用新型属半导体材料制备设备领域,特别涉及一种内圆切片机防护罩。防护罩由罩体和推拉门组成,用有机玻璃板材制作。罩体为长方体结构,在立式内圆切片机上使用时,放置在切片机刀盘罩上,切片机送料系统从罩体的顶面的未封闭的窗口进入内圆切片机。推拉门镶嵌在罩体正面的上下滑动导轨内,方便工作人员常规操作。本实用新型的特点在于,封闭式防护罩能在各个角度对操作者实施防护,并能有效减小刀具切割晶体时产生的噪音;整个防护罩内贴满防爆膜,能够有效阻止高动能的碎晶片穿透防护罩各个面的有机玻璃板,达到真正防爆的目的。本实用新型用于半导体晶体的内圆切片机。
Abstract: The utility model belongs to the field of semiconductor material preparation equipment, and particularly relates to a shield of an inside diameter slicer. The shield comprises a shield body and a double acting door, and is manufactured with plexiglass plates; the shield body adopts a cuboid structure; when used on a vertical type inside diameter slicer, the shield is arranged on a cutter head cover of the slicing machine; a feeding system of the slicing machine enters the inside diameter slicer from an unsealed window on the top of the shield body; and the double acting door is embedded in a guiding rail capable of sliding up and down on the front side of the shield body, thereby facilitating routine operations of staffs. The utility model is characterized in that the sealed shield can protect an operator at all angles, and efficiently reduce the noise generated when a small cutter cuts crystal; and rupture membranes are stuck inside the whole shield so as to be capable of efficiently stopping bits of wafer with high kinetic energy from penetrating the plexiglass plates on each surface of the shield and achieving true explosion-proof purpose. The machine can be used for the inside diameter slicer of semiconducting crystal.
申请人: 北京有色金属研究总院 北京国晶辉红外光学科技有限公司
Applicant: BEIJING NONFERROUS METAL[CN]
地址: 100088北京市新街口外大街2号
发明(设计)人: 闵振东 李秀辉
Inventor: ZHENDONG MIN[CN]; XIUHUI LI[CN]
主分类号: B28D5/00(2006.01)I
分类号: B28D5/00(2006.01)I
  • 法律状态
2017-02-22  未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B28D 5/00申请日:20081225授权公告日:20091021终止日期:20151225
2013-09-11  专利权的转移IPC(主分类):B28D 5/00变更事项:专利权人变更前权利人:北京有色金属研究总院变更后权利人:北京国晶辉红外光学科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:100088 北京市新街口外大街2号变更后权利人:100088 北京市新街口外大街2号变更事项:专利权人变更前权利人:北京国晶辉红外光学科技有限公司登记生效日:20130820
2009-10-21  授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种内圆切片机防护罩,其特征在于,所述内圆切片机防护 罩的罩体(1)为长方体结构,其正面的右侧封闭50%,左侧面和背 面全封闭,右侧面在与正面和背面的连接处各封闭20%,顶面从左侧 面向右封闭60~70%,底面从左侧面向右封闭10~20%,正面的上下 边各粘接一条滑动导轨,其长度和正面的宽度相同,推拉门(2)镶 嵌在上下滑动导轨内,推拉门(2)的宽度为罩体(1)正面宽度的 55~60%。
公开号  201329622Y
公开日  2009-10-21
专利代理机构  北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人  朱印康
颁证日  
优先权  
 
国别 优先权号 优先权日 类型
CN  200820124585  20081225 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 附加信息
同族专利
 
引用文献
 
被引用文献
CN103507538ACN103787435A