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用于化学机械抛光的层叠的纤丝栅格
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申请号:200810213218.X 申请日:2008-08-15
摘要:可用来在抛光介质(120)的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种(112)进行抛光的抛光垫(104)。所述抛光垫(104)包括层叠在抛光纤丝的基底层(204,404,504)上的多个抛光纤丝层(200,300,400,500),所述多个抛光纤丝层(200,300,400,500)具有顺序层叠的形式,其中每个抛光纤丝层位于较低的抛光纤丝之上,与较低的抛光纤丝结合,所述多个抛光纤丝层(200,300,400,500)平行于抛光垫(104)的抛光表面,多个抛光纤丝层(200,300,400,500)中单独的抛光纤丝(202,302,402)位于平均至少三条抛光纤丝(202,302,402)之上,形成具有互连抛光纤丝的开孔栅格结构(210,310,410,510,610)的抛光垫。
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
地址: 美国特拉华州
发明(设计)人: G·P·马尔多尼
主分类号: B24D11/00(2006.01)I
分类号: B24D11/00(2006.01)I H01L21/304(2006.01)I B24B13/00(2006.01)I
  • 法律状态
2012-07-11  授权
2009-04-15  实质审查的生效
2009-02-18  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种可用来在抛光介质的存在下对磁性、光学和半导体基材中的至少 一种进行抛光的抛光垫,所述抛光垫包括层叠在抛光纤丝的基底层上的多个抛 光纤丝层,所述多个抛光纤丝层具有依次层叠的形式,每个抛光纤丝层位于至 少一个较低的抛光纤丝之上,与所述较低的抛光纤丝相结合,所述多个抛光纤 丝层平行于抛光垫的抛光表面,所述多个抛光纤丝层中的单独的抛光纤丝是位 于平均至少三根抛光纤丝之上,形成所述具有互连抛光纤丝的开放栅格结构的 抛光垫。
公开号  101367202
公开日  2009-02-18
专利代理机构  上海专利商标事务所有限公司
代理人  陈哲锋
颁证日  
优先权  2007.8.16 US 11/893,495
国际申请  
国际公布  
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