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用于化学机械抛光的互穿网络
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申请号:200810210493.6 申请日:2008-08-14
摘要:本发明提供一种化学机械抛光垫,其中该化学机械抛光垫具有抛光层,该抛光层含有包括连续的耐久性相和基本上共-连续的不稳定性相的互穿网络。本发明还提供了制造该化学机械抛光垫的方法和使用该化学机械抛光垫抛光基材的方法。
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
地址: 美国特拉华州
发明(设计)人: G·P·马尔多尼
主分类号: B24D13/14(2006.01)I
分类号: B24D13/14(2006.01)I B24B29/00(2006.01)I H01L21/304(2006.01)I
  • 法律状态
2012-11-14  授权
2009-04-15  实质审查的生效
2009-02-18  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种 的基材的化学机械抛光垫,所述抛光垫包括: 包括互穿网络的抛光层, 其中所述互穿网络含有连续的耐久性相和基本上共-连续的不稳定性 相;其中所述抛光层的抛光表面适合抛光所述基材。
公开号  101367204
公开日  2009-02-18
专利代理机构  上海专利商标事务所有限公司
代理人  陈哲锋
颁证日  
优先权  2007.8.15 US 11/839,376
国际申请  
国际公布  
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