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曝光装置、曝光方法以及半导体器件的制造方法
无权-视为撤回

Exposure equipment, exposure method, and manufacturing method for a semiconductor device

申请号:200810145331.9 申请日:2008-08-07
摘要:提供了一种即使当光罩被倾斜时也具有高分辨率的曝光装置。该曝光装置包括:用于将形成在光罩(101)的表面上的图案投射在晶圆(130)上的光学系统;用于测定光罩(101)相对于与光学系统的光轴方向垂直的平面的倾斜角度的测定部;以及用于根据由测定部所测定的倾斜角度来调整晶圆(130)的位置的调整部。
Abstract: Provided is an exposure equipment having high resolution even when a reticle is inclined. The exposure equipment includes: an optical system for projecting on a wafer (130), a pattern formed on a surface of a reticle (101); a determining section for determining a tilt angle of the reticle (101) with respect to a plane perpendicular to an optical axis direction of the optical system; and an adjusting section for adjusting a position of the wafer (130) based on the tilt angle determined by the determining section.
申请人: 恩益禧电子股份有限公司
Applicant: NEC ELECTRONICS CORP[JP]
地址: 日本神奈川
发明(设计)人: 林省一郎
Inventor: SHOUICHIROU HAYASHI[JP]
主分类号: G03F7/20(2006.01)I
分类号: G03F7/20(2006.01)I H01L21/027(2006.01)I
  • 法律状态
2012-05-30  发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):G03F 7/20公开日:20090211
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20080807
2009-02-11  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种曝光装置,包括: 光学系统,用于将形成在光罩的表面上的图案投射在晶圆上; 测定部,用于测定所述光罩相对于与所述光学系统的光轴方向垂 直的平面的倾斜角度;以及 晶圆载物台,用于保持所述晶圆。
公开号  101364051A
公开日  2009-02-11
专利代理机构  中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人  陆锦华 黄启行
颁证日  
优先权  2007.8.8 JP 2007-206171
 
国别 优先权号 优先权日 类型
JP  2007-206171  20070808 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数