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一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料及其制备和应用方法
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申请号:200810143063.7 申请日:2008-10-08
摘要:本发明公开了一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料及其制备和应用方法。分子印迹材料的制备步骤如下:在合成分子印迹材料其前,先将硅胶活化、硅烷化;然后将功能单体溶解于致孔剂中,加入交联剂,引发剂,硅烷化硅胶,使之在真空下反应;接着利用化学或者物理方法将模板分子从硅胶表面高分子材料中移去。在聚合物中形成了与模板分子空间匹配,具有特异性排列的多重作用位点的大量空穴,这样的空穴对TSNA分子具有高效选择性。本发明用于卷烟烟气选择性降害时最好能够应用于复合嘴棒中,其添加量可以根据需要任意调节。将本发明物以40MG/支添加到嘴棒中能够在不影响烟气其它组分的情况下降低烟气中TSNA含量25.1%,从而到达选择性降害的目的。
申请人: 湖南中烟工业有限责任公司
地址: 410007湖南省长沙市雨花区万家丽中路三段188号
发明(设计)人: 陈潜 银董红 金勇 李克
主分类号: A24B15/16(2006.01)I
分类号: A24B15/16(2006.01)I A24D3/14(2006.01)I A24D1/18(2006.01)I C08F292/00(2006.01)I C08F2/00(2006.01)I C08J9/26(2006.01)I
  • 法律状态
2010-11-17  授权
2009-04-15  实质审查的生效
2009-02-18  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料,其特征在于:由下 述方式制备而成,选取40-60目硅胶,用酸回流将其活化,洗涤干燥;之后用 硅烷偶联剂将其硅烷化;按摩尔比:1:3~15:10~25,分别取模板分子、功 能单体、交联剂,将模板分子,功能单体溶解于致孔剂中,加入交联剂,引发 剂,硅烷化硅胶,将上述物质置于反应器中混合均匀,充入氮气,真空,密封, 在50~70℃恒温水浴反应12~24小时,产物过筛取40~60目颗粒,用稀酸或 者酸与醇的混合溶液将产物中的模板分子以及多于未反应物除去,进一步超声 提取,洗涤,真空干燥,即得;所述模板分子为含吡啶基的有机物。
公开号  101366551
公开日  2009-02-18
专利代理机构  长沙市融智专利事务所
代理人  颜勇
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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