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用于叶栅内流的等离子体激励控制系统及控制方法
有权
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申请号:200810119578.3 申请日:2008-09-03
摘要:一种用于叶栅内流的等离子体激励控制系统及控制方法,是在计算机控制下进行的,通过在叶栅吸力面不同位置施加适当强度的等离子体激励,一方面可以起到抑制叶栅吸力面流动分离的作用,另一方面可以改善叶栅尾迹区的流动状态,起到减小流动损失的作用。
申请人: 中国科学院工程热物理研究所
地址: 100080北京市北四环西路11号
发明(设计)人: 李钢 朱俊强 聂超群 徐燕骥
主分类号: F15D1/00(2006.01)I
分类号: F15D1/00(2006.01)I F04D29/26(2006.01)I F04D29/00(2006.01)I G05B19/04(2006.01)I G05D16/20(2006.01)I
  • 法律状态
2010-12-01  授权
2010-04-28  实质审查的生效IPC(主分类):F15D 1/00申请日:20080903
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种用于叶栅内流的等离子体激励控制系统,其包括: 多个等离子体激励器,每一个等离子体激励器均是在一绝缘材料的两 侧面非对称地各设置一金属电极;其中一金属电极嵌在绝缘材料中,另一 金属电极裸露在空气中; 各等离子体激励器分散地设置在叶栅的吸力面上,且各等离子体激励 器嵌在绝缘材料中的金属电极一面朝向叶栅的吸力面;各等离子体激励器 的两个电极分别连接一高压高频电源;在该高压高频电源的作用下,各等 离子体激励器嵌在绝缘材料中的金属电极上方生成等离子体,并通过等离 子体与中性气体分子的碰撞向叶栅边界层输送能量,使叶栅周围空气形成 静流量为零的水平方向射流,加速叶栅附面层内的气流流动; 叶栅支撑固定在叶栅端壁内,该叶栅端壁将压缩气体封闭在通道内; 叶栅的吸力面上安置有壁面静压测量装置,以测量叶栅不同位置处的 吸力面表面静压,进而判断是否发生流动分离; 叶栅的吸力面上设置有壁面测温装置,以测量壁面温度; 高压高频电源、壁面静压测量装置以及壁面测温装置均由一中央处理 器控制。
公开号  101666343
公开日  2010-03-10
专利代理机构  中科专利商标代理有限责任公司
代理人  周长兴
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期