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日照控制低辐射涂层
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申请号:200810109199.6 申请日:2008-05-23
摘要:本发明提供具有日照控制低辐射涂层的基底。该日照控制低辐射涂层包括一层或多层介电吸收膜。在一些实施方案中,所述介电吸收膜具有小于1.9的吸收比K380<Λ<450NM/K650<Λ<760NM
申请人: 卡迪奈尔镀膜玻璃公司
地址: 美国明尼苏达州
发明(设计)人: J·R·杰曼 G·L·普法夫
主分类号: C03C17/34(2006.01)I
分类号: C03C17/34(2006.01)I
  • 法律状态
2012-12-26  授权
2010-10-06  实质审查的生效IPC(主分类):C03C 17/34申请日:20080523
2009-02-18  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.具有日照控制低辐射涂层的透明基底,该涂层包含: 包含银的最内层红外反射膜和包含银的最外层红外反射膜; 位于基底和最内层红外反射膜之间的第一介电吸收膜,该第一介 电吸收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k380<λ<450nm/k650<λ<760nm;和 比最外层红外反射膜距离基底更远的第二介电吸收膜,该第二介电吸 收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k380<λ<450nm/k650<λ<760nm。
公开号  101367620
公开日  2009-02-18
专利代理机构  永新专利商标代理有限公司
代理人  苗征 于辉
颁证日  
优先权  2007.8.14 US 11/838,481
国际申请  
国际公布  
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