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光学元件的抛光模及制备方法
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申请号:200810046157.2 申请日:2008-09-25
摘要:本发明光学元件的抛光模属于光学元件在抛光过程中与被抛光物表面磨擦接触的模以及制备方法,尤其是硒化锌光学元件的抛光模。抛光模:由按重量比为500份的抛光沥青,和20~200份的氧化铝粉组成;抛光沥青是55#~82#抛光沥青,抛光沥青是最佳用美国环球光学有限公司生产的914CP抛光沥青即64#抛光沥青,氧化铝粉的粒度为0.50~2.00微米。制备步骤:加热熔化抛光沥青、混均、固化、开掘储磨料槽。本发明提供的抛光模对硒化锌光学元件抛光表面光洁度可达到10/5以上,明显高于美军标40/20的精度要求。
申请人: 成都贝瑞光电子材料技术有限公司
地址: 610000四川省成都市武侯区人民南路四段十三号
发明(设计)人: 陈兴建 曾贤高
主分类号: B24B13/01(2006.01)I
分类号: B24B13/01(2006.01)I
  • 法律状态
2012-02-01  授权
2009-04-15  实质审查的生效
2009-02-18  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.光学元件的抛光模,由按重量比为500份的抛光沥青,和20~200份的氧化铝粉组 成;抛光沥青是55#~82#抛光沥青,氧化铝粉的粒度为0.50~2.00微米。
公开号  101367185
公开日  2009-02-18
专利代理机构  成都市辅君专利代理有限公司
代理人  胡承锦 杨海燕
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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