搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

季铵盐型阳离子表面活性剂和一种化学机械抛光液的应用
有权
阅读授权文献

申请号:200810042571.6 申请日:2008-09-05
摘要:本发明公开了季铵盐型阳离子表面活性剂在制备低介电材料的化学机械抛光液中的应用,还公开了一种化学机械抛光液在抛光低介电材料的中的应用,其包含:研磨颗粒、季铵盐型阳离子表面活性剂、腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂和水。本发明的应用中,季铵盐型阳离子表面活性剂以及含其的抛光液可以抑制低介电材料(如BD)的抛光速率,而对铜、钽和二氧化硅(TEOS)的去除速率影响不大。
申请人: 安集微电子(上海)有限公司
地址: 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
发明(设计)人: 荆建芬 姚颖 宋伟红
主分类号: C09G1/02(2006.01)I
分类号: C09G1/02(2006.01)I
  • 法律状态
2013-08-28  授权
2011-10-19  实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20080905
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、季铵盐型阳离子表面活性剂在制备低介电材料的化学机械抛光液 中的应用。
公开号  101665664
公开日  2010-03-10
专利代理机构  上海翰鸿律师事务所
代理人  李佳铭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期