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一种化学机械抛光液
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权利转移
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申请号:200810042570.1 申请日:2008-09-05
摘要:本发明公开了一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒和水,其还同时含有双胍类化合物和氮唑类化合物以及电解质盐。本发明的抛光液中同时含有的双胍类物质和氮唑类物质具有协同作用,再配合电解质盐的加入,可显著提高多晶硅的去除速率。
申请人: 安集微电子(上海)有限公司
地址: 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
发明(设计)人: 王晨 杨春晓 荆建芬
主分类号: C09G1/02(2006.01)I
分类号: C09G1/02(2006.01)I
  • 法律状态
2016-10-19  专利权的转移 IPC(主分类):C09G 1/02登记生效日:20160928变更事项:专利权人变更前权利人:安集微电子(上海)有限公司变更后权利人:安集微电子科技(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室变更后权利人:201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
2014-03-26  授权
2011-10-19  实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20080905
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒和水,其特征在于:其还同时含有双 胍类化合物和氮唑类化合物以及电解质盐。
公开号  101665663
公开日  2010-03-10
专利代理机构  上海翰鸿律师事务所
代理人  李佳铭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期