搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

胺类化合物的应用以及一种化学机械抛光液
无权-视为撤回

申请号:200810042567.X 申请日:2008-09-05
摘要:本发明公开了一种如式1所示的胺类化合物在制备用于抛光氧化物介电质的抛光液中的应用;其中R1、R2和R3分别为氢、(CH2)NCOOR4或(CH2)NCONH2,但不同时为氢;N为0或1;R4为氢、碱金属离子、铵离子或碳原子数1~4的烷基。本发明还提供了一种化学机械抛光液,其含有如式1所示的胺类化合物中的一种或多种、二氧化硅、表面活性剂和水。本发明的抛光液能够提升氧化物介电质的抛光速率,同时抛光液中磨粒含量较低。
申请人: 安集微电子科技(上海)有限公司
地址: 201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
发明(设计)人: 陈国栋 姚颖 宋伟红
主分类号: C09G1/02(2006.01)I
分类号: C09G1/02(2006.01)I
  • 法律状态
2012-05-23  发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C09G 1/02公开日:20100310
2010-03-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种如式1所示的胺类化合物在制备用于抛光氧化物介电质的抛光 液中的应用; id="icf0001" file="A2008100425670002C1.tif" wi="27" he="14" top= "47" left = "83" img-content="drawing" img-format="tif" orientation="portrait" inline="yes"/>式1 其中,R1、R2和R3分别为氢、(CH2)nCOOR4或(CH2)nCONH2,但不同时为 氢;n为0或1;R4为氢、碱金属离子、铵离子或碳原子数1~4的烷基。
公开号  101665661
公开日  2010-03-10
专利代理机构  上海翰鸿律师事务所
代理人  李佳铭
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期