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电解槽大梁两端门型立柱的结构
无权-届满
著录变更

Structure of gantry upright column on the double end of beam of electrolytic cell

申请号:200520092828.0 申请日:2005-10-09
摘要:本实用新型涉及一种电解铝厂电解槽上部结构大梁对电解槽壳的支撑结构,尤其是涉及到电解槽大梁两端门型立柱的结构。本实用新型电解槽大梁两端门型立柱的结构,包括烟道端门型立柱、出铝端门型立柱、大梁、横梁,电解槽上部的出铝端门型立柱高于烟道端门型立柱。本实用新型的成本没有多少变化,对提高出铝效率、减少电解多功能机组工作时间有明显作用。
Abstract: The utility model relates to a structure for supporting an electrolytic cell casing by a crossbeam of the upper structure of an electrolytic cell in electrolytic aluminium factories, particularly a structure of gate type upright columns on both ends of a crossbeam of an electrolytic cell. The structure of gate type upright columns on both ends of a beam of an electrolytic cell of the utility model comprises a gate type upright column at the end of a flue, a gate type upright column at the end of discharging aluminium, a crossbeam and a transverse beam, wherein the gate type upright column at the end of discharging aluminium, which is arranged at the upper part of the electrolytic cell, is higher than the gate type upright column at the end of a flue. The utility model has little change in costs, and has obvious functions of improving aluminium discharging efficiency and reducing the working time of an electrolytic multifunctional machine set.
申请人: 沈阳铝镁设计研究院
Applicant: SHENYANG AL MG INST[CN]
地址: 110001辽宁省********(隐藏)
发明(设计)人: 刘雅锋 王桂芝 杨昕东 肖冰
Inventor: LIU YAFENG WANG[CN]
主分类号: C25C3/10(2006.01)I
分类号: C25C3/10(2006.01)I
  • 法律状态
2015-11-25  专利权有效期届满IPC(主分类):C25C 3/10申请日:20051009授权公告日:20061011
2011-06-22  专利权人的姓名或者名称、地址的变更IPC(主分类):C25C 3/10变更事项:专利权人变更前:沈阳铝镁设计研究院变更后:沈阳铝镁设计研究院有限公司变更事项:地址变更前:110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号变更后:110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号
2006-10-11  授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、电解槽大梁两端门型立柱的结构,包括烟道端门型立柱(1)、出铝 端门型立柱(2)、大梁(3)、横梁(5),其特征在于电解槽上部的出铝端门 型立柱(2)高于烟道端门型立柱(1)。
公开号  2825655Y
公开日  2006-10-11
专利代理机构  辽宁沈阳国兴专利代理有限公司
代理人  李丛
颁证日  
优先权  
 
国别 优先权号 优先权日 类型
CN  200520092828  20051009 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 附加信息
同族专利
 
引用文献
 
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