氧化锡空心纳米材料的制备方法
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Method for preparing hollow nano-material of stannic oxide

申请号：200510129960.9 申请日：2005-12-16

CN200510129960 CN1331758C 微信扫码查看/分享专利	摘要：氧化锡空心纳米材料的制备方法，涉及一种纳米材料的制备，尤其是涉及一种以氧化锌为牺牲模板制备氧化锡空心纳米材料的方法。提供一种制备各种形态的SnO2空心纳米材料的通用方法。步骤为制备ZnO纳米材料，制备SnH4前驱体，产生的气体SnH4通过N2携带进入一个气囊中备用，生长SnO2外壳，即在硅片衬底上生长得到具有核-壳结构的ZnO/SnO2复合材料，最后除去ZnO内核，即得到保持ZnO初始外形的SnO2空心纳米材料。优点是ZnO纳米材料具有极其丰富的形态，SnO2空心材料外壁的结晶度良好，SnO2空心材料外壁的厚度可控。
	Abstract： A method for preparing stannic oxide hollow nano material, relating to the nano material prepartion, especially relating to a method for preparing stannic oxide hollow nano material by taking zinc oxide as mould, and providing a general method for preparing stannic oxide hollow nano material in various shape. The steps comprises: preparing zinc oxide nano material, preparing SnH4 predecessor material, the produced SnH4 is carried into an air-pocket by nitrogen for emergency, producing SnO2 housing, that is to produce ZnO/SnO2 composite material with kernel-housing structure on the silicon substrate, removing ZnO inner core and getting the SnO2 hollow nano material keeping the ZnO original shape. The ZnO nano material is characterized by the rich shapes, good crystallinity of outer housing and controllable width of the SnO2 hollow material outer wall.
	申请人：厦门大学
	Applicant： UNIV XIAMEN[CN]
	地址： 361005福建省********(隐藏)
	发明(设计)人：匡勤周樨徐韬林水潮江智渊谢兆雄谢素原黄荣彬郑兰荪
	Inventor： KUANG QIN ZHOU[CN]
	主分类号： C01G19/02
	分类号： C01G19/02

法律状态

2011-03-09	未缴年费专利权终止IPC(主分类):C01G 19/02申请日:20051216授权公告日:20070815终止日期:20100118

2007-08-15	授权

2006-08-16

2006-06-21	公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

其他信息

主权项

1、氧化锡空心纳米材料的制备方法，其特征在于其步骤如下： 1)ZnO模板的制备：通过化学气相沉积、离子液体或激光溅射方法制备ZnO纳米材料； 2)SnH4前驱体的制备：将SnCl4·5H2O水溶液滴加到KOH和KBH4混合水溶液中，产生的气体SnH4通过N2携带进入一个气囊中备用； 3)SnO2外壳的生长：将制备好的ZnO纳米材料分散在裁好的硅片衬底上，然后放置在化学气相沉积装置的反应腔中作为SnO2生长的衬底，待反应腔抽真空后，将硅片衬底加热到600～800℃，通入配制好的SnH4/N2混合气，沉积后停止供应SnH4/N2混合气并关闭加热控制器的电源使硅片自然降温，最后关闭真空系统，即在硅片衬底上生长得到具有核- 壳结构的ZnO/SnO2复合材料； 4)ZnO内核的除去：沉积SnO2后所得的产物连同硅片衬底浸泡在盛有稀酸溶液的培养皿中，再用清水清洗至pH呈中性后干燥，即得到保持ZnO初始外形的SnO2空心纳米材料。

公开号

1331758C

公开日

2007-08-15

专利代理机构

厦门南强之路专利事务所

代理人

马应森戴深峻

颁证日

优先权

国别	优先权号	优先权日	类型

CN	200510129960	20051216	Y

国际申请

国际公布

进入国家日期

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Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
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Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
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