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一种射频电路腔体结构内电位器的调节方法及装置
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Method and apparatus for adjusting potentiometer within RF circuit cavity structure

申请号:200510011533.0 申请日:2005-04-06
摘要:本发明公开了一种射频电路腔体结构内电位器的调节方法,用以提高所述电位器的调节效率,包括:确定所述腔体深度和所述腔体结构的盖板使用材料的厚度;确定所述盖板上用于调节所述电位器的开口位置;在所述盖板上做成型孔,该成型孔的轴线与所述电位器上调节螺钉的轴线尽量保持同轴;计算所述盖板成型的深度为D=L-H-F-S;及设计所述盖板成型后开孔的大小、盖板成型面积的大小;L为所需腔体深度,H为电位器高度,该电位器高度H包括调节螺钉高度,F为印制电路板高度,S为盖板成型后底面距所述调节螺钉的间距。本发明解决了现有技术中电位器调节困难,效率低的诸多问题,有效节省调试时间和费用,提高调试效率,降低了生产成本。
Abstract: The disclosed regulation method for potentiometer in RF circuit cavity comprises: determining the cavity depth, cover plate thickness of cavity structure, and the opening position for regulation; manufacturing a shaping hole on the plate with axis coaxial to the one of regulation screw; calculating the depth of plate shaping as D=L-H-F-S, the opening size, and the plate area (wherein, L: the required cavity depth; H: the height of potentiometer comprised of the screw; F: PCB height; and S: the distance between shaped plate bottom to said screw). This invention overcomes lots of problems in prior art, improves efficiency, and reduces cost.
申请人: 中兴通讯股份有限公司
当前权利人: 江苏永鼎通信有限公司
Applicant: ZTE CORP[CN]
地址: 518057广东省********(隐藏)
发明(设计)人: 李旭 夏昊 陈东丽 马朋仁
Inventor: LI XU XIA[CN]
主分类号: H01C10/00(2006.01)I
分类号: H01C10/00(2006.01)I H03H1/00(2006.01)I H01P1/00(2006.01)I H05K13/00(2006.01)I
  • 法律状态
2018-04-10  专利权的转移IPC(主分类):H01C 10/00登记生效日:20180322变更事项:专利权人变更前权利人:中兴通讯股份有限公司变更后权利人:江苏永鼎通信有限公司变更事项:地址变更前权利人:518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园科技南路中兴通讯大厦变更后权利人:215234 江苏省苏州市吴江区黎里镇越秀路888号
2009-05-13  授权
2006-12-06  
2006-10-11  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种射频电路腔体结构内电位器的调节方法,其特征在于,包括如下 步骤: 确定腔体深度与盖板上用于调节电位器的开口位置; 在所述盖板上设置成型孔,该成型孔的轴线与所述电位器上调节螺钉的轴 线基本同轴; 计算所述盖板成型孔的深度为D=L-H-F-S,L为所需腔体深度,H为电位 器高度,该电位器高度H包括调节螺钉高度,F为印制电路板高度,S为盖板 成型后底面距所述调节螺钉的间距;及 确定所述盖板成型后开孔的大小、盖板成型面积的大小。
公开号  1845264A
公开日  2006-10-11
专利代理机构  北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人  梁挥 徐金国
颁证日  
优先权  
 
国别 优先权号 优先权日 类型
CN  200510011533  20050406 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
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X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
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R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
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类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 附加信息
同族专利
CN100487828C
 
引用文献
 
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