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光盘母盘原盘及其制造方法、光盘母盘及其制造方法、以及光盘
无权-视为撤回

申请号:03808580.1 申请日:2003-04-15
摘要:本发明的目的在于,可在制造光盘母盘时省去需要长时间且容易产生不良的Ni电铸工序,另外,可形成精度高的细微凹凸图形的光盘母盘原盘等。本发明光盘母盘原盘11是顺序地层积基盘1、半交联抗蚀剂层2及预焙抗蚀剂层3的装置。预焙抗蚀剂层3由甲氧基甲基化蜜胺构成,可容易地通过曝光、显影形成突起部(图1C)。
申请人: 长濑产业株式会社
地址: 日本大阪
发明(设计)人: 小川修 山中祥次郎 越野定文 三宅公二 佐野一彦
主分类号: G11B7/26
分类号: G11B7/26 G03F7/26 G03F7/004
  • 法律状态
2007-12-26  
2005-09-21  
2005-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种光盘母盘原盘,其包括:基盘;和被设于所述基盘上的半 交联抗蚀剂层和含有下记式(1)表示的化合物而构成的预焙抗蚀剂层。
公开号  1647181A
公开日  2005-07-27
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人  陈昕
颁证日  
优先权  2002.4.15 JP 111600/2002;2002.8.2 JP 226296/2002
国际申请  PCT/JP2003/004789 2003.4.15
国际公布  WO2003/088235 日 2003.10.23
进入国家日期  2004.10.15