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成像方法
无权-未缴年费

申请号:03808418.X 申请日:2003-04-14
摘要:通过多个子照射在射线敏感层(5)中形成光学图像,在每个子照射中,将光阀阵列(21-25)和对应的会聚单元阵列(91-95)用于根据子图像图案在抗蚀剂层上形成斑点图案(111-115)。在子照射之间,该抗蚀剂层相对于该阵列移动。通过将折射透镜(43)用作会聚单元获得了明亮并且良好限定的斑点。该射线敏感层可以是在基底上的抗蚀剂层,其中利用打印机中使用的光刻方法或者静电层构成了该器件。
申请人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
地址: 荷兰艾恩德霍芬
发明(设计)人: A·J·M·内里森
主分类号: G03F7/20
分类号: G03F7/20 B41J2/447
  • 法律状态
2011-06-15  未缴年费专利权终止IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20030414授权公告日:20081105终止日期:20100414
2008-11-05  授权
2005-09-21  
2005-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种在射线敏感层上形成光学图像的方法,该方法包括以下步 骤: -提供射线源; -提供射线敏感层; -将独立受控光阀的二维阵列放置在射线源和射线敏感层之间; -将射线会聚单元的二维阵列放置在光阀阵列和射线敏感层之 间,使得每个会聚单元对应于一个不同的光阀并用于将来自对应光阀 的射线会聚到射线敏感层的斑点区域中; -通过一方面对所述层区域、另一方面对相关的光阀/会聚单元对 彼此相对地进行扫描,并且依据要由光阀写入的图像部分在开和关状 态之间对每个光阀进行切换,在射线敏感层区域内同时写入图像部 分; -其特征在于利用了折射透镜形式的会聚单元,并且在于使用了 两个阵列来形成斑点矩阵阵列,所述矩阵的间距基本上大于斑点尺 寸。
公开号  1646992A
公开日  2005-07-27
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  邹光新 张志醒
颁证日  
优先权  2002.4.15 EP 02076459.3
国际申请  PCT/IB2003/001372 2003.4.14
国际公布  WO2003/087946 英 2003.10.23
进入国家日期  2004.10.14