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溅射装置、利用溅射的薄膜形成方法、以及使用该装置的盘形记录媒体制造方法
无权-视为撤回

申请号:03807718.3 申请日:2003-04-01
摘要:在一种溅射装置中,一覆盖基片的中心部分的内掩模由一支承件支承,该支承件设置在一靶的后表面上的一垫板上,并且该内掩模通过一弹簧以一预定负荷紧靠该基片。通过这种结构,当进行薄膜的沉积时,该紧靠基片的内掩模可与该基片一起旋转,并且能可靠地形成该基片的中心部分的无膜形成区域,并改善膜形成区域中的薄膜厚度等。
申请人: TDK株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 越川政人 石崎秀树 渡边英昭 松井敏
主分类号: C23C14/34
分类号: C23C14/34 G11B7/26
  • 法律状态
2007-10-03  
2005-09-21  
2005-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种溅射装置,该装置用于在一真空室内在基本为盘形的 基片的表面上进行薄膜形成操作,该装置具有: 一包含要形成的薄膜的主要组成元素的靶; 一用于通过所述靶的一表面保持所述靶的垫板; 一用于保持所述基片并使所述基片的表面与所述靶正对的基 片托架;以及 分别覆盖所述基片的外周向部分和一中心部分的一外掩模和 一内掩模; 其中,所述内掩模与一滑动轴相连并由该滑动轴支承以便可 以旋转和平移,该滑动轴穿过一形成在所述靶上的通孔并由一设 置在所述垫板上的支承件支承,并且该内掩模利用设置在所述垫 板上的偏压装置通过所述滑动轴以一预定负荷紧靠在所述基片的 中心部分上。
公开号  1646723A
公开日  2005-07-27
专利代理机构  北京市中咨律师事务所
代理人  吴鹏 马江立
颁证日  
优先权  2002.4.4 JP 102038/2002
国际申请  PCT/JP2003/004170 2003.4.1
国际公布  WO2003/085158 日 2003.10.16
进入国家日期  2004.10.08