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清洁气和蚀刻气
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申请号:03800417.8 申请日:2003-01-28
摘要:本发明的室清洁气和用于含硅膜的蚀刻气包括 含2-4个氧原子的全氟环醚,所述氧原子以醚键与碳原子连 接。室清洁气和蚀刻气几乎不产生有害废气如CF4,CF4是全球变暖的原因之一,并且对环境有害。它们是无毒气体或挥发性液体,易使用,并且在废气处理方面性能优良。此外,本发明的室清洁气具有优良的清洁速率。
申请人: 财团法人地球环境产业技术研究机构 独立行政法人产业技术综合研究所
地址: 日本京都府
发明(设计)人: 大平丰 三井有规 米村泰辅 关屋章
主分类号: H01L21/205
分类号: H01L21/205 C09K13/08 C23C16/44 H01L21/3065
  • 法律状态
2018-09-04  专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/205变更事项:专利权人变更前:旭硝子株式会社变更后:AGC株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京变更事项:共同专利权人变更前:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 瑞萨电子株式会社 独立行政法人产业技术综合研究所变更后:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 瑞萨电子株式会社 独立行政法人产业技术综合研究所
2014-10-29  专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类):H01L 21/205
变更事项:专利权人
变更前:旭硝子株式会社
变更后:旭硝子株式会社
变更事项:地址
变更前:日本东京
变更后:日本东京
变更事项:专利权人
变更前:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 NEC电子株式会社 独立行政法人产业技术综合研究所
变更后:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 瑞萨电子株式会社 独立行政法人产业技术综合研究所
2014-10-29  专利权的转移
IPC(主分类):H01L 21/205
变更事项:专利权人
变更前权利人:旭硝子株式会社
变更后权利人:旭硝子株式会社
变更事项:地址
变更前权利人:日本东京
变更后权利人:日本东京
变更事项:专利权人
变更前权利人:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 株式会社瑞萨科技 独立行政法人产业技术综合研究所
变更后权利人:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 NEC电子株式会社 独立行政法人产业技术综合研究所
登记生效日:20141011
2011-11-16  专利权人的姓名或者名称、地址的变更IPC(主分类):H01L 21/205变更事项:专利权人变更前:旭硝子株式会社变更后:旭硝子株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京变更事项:共同专利权人变更前:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通微电子株式会社 株式会社瑞萨科技 独立行政法人产业技术综合研究所变更后:日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气 富士通半导体股份有限公司 株式会社瑞萨科技 独立行政法人产业技术综合研究所
2009-05-13  专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)变更项目:专利权人变更前权利人:旭硝子株式会社 地址: 日本东京; 日商佳能安内华股份有限公司 地址: 日本 东京; 株式会社爱发科 地址: 日本神奈川县; 关东电化工业株式会社 地址: 日本东京; 索尼株式会社 地址: 日本东京; 株式会社日立国际电气; 富士通株式会社; 株式会社瑞萨科技; 独立行政法人产业技术综合研究所; 地址: 日本东綹变更后权利人:旭硝子株式会社 地址: 日本东京; 日商佳能安内华股份有限公司 地址: 日本 东京; 株式会社爱发科 地址: 日本神奈川县; 关东电化工业株式会社 地址: 日本东京; 索尼株式会社 地址: 日本东京; 株式会社日立国际电气; 富士通微电子株式会社; 株式会社瑞萨科技; 独立行政法人产业技术综合研究所; 地址: 日本东綹登记生效日:2009.4.3
2007-02-14  <变更事项>专利权人<变更前权利人>财团法人地球环境产业技术研究机构<变更后权利人>旭硝子株式会社<登记生效日>2007.01.05
2007-02-14  <变更事项>地址<变更前权利人>日本京都府<变更后权利人>日本东京<登记生效日>2007.01.05
2007-02-14  <变更事项>共同专利权人<变更前权利人>独立行政法人产业技术综合研究所<变更后权利人>日商佳能安内华股份有限公司 株式会社爱发科 关东电化工业株式会社 索尼株式会社 株式会社日立国际电气<登记生效日>2007.01.05
2006-07-19  授权
2004-09-29  
2004-07-28  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种室清洁气,包括含2-4个氧原子的全氟环醚,所述氧原子以醚键与碳 原子连接。
公开号  1516892A
公开日  2004-07-28
专利代理机构  上海专利商标事务所
代理人  周承泽
颁证日  
优先权  2002.2.12 JP 034460/2002
国际申请  PCT/JP2003/000804 2003.1.28
国际公布  WO2003/069659 日 2003.8.21
进入国家日期  2003.12.11