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蒸发方法、蒸发装置及制造发光器件的方法
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申请号:03142783.9 申请日:2003-05-17
摘要:本发明提供了一种蒸发系统及用于该系统的蒸发方法,该系统是一种提高EL材料利用率、成膜均匀性极好且形成EL层的产量极高的淀积装置。而且本发明提供了一种有效地将EL材料气相淀积到大面积衬底上的方法。而且,本发明提供了一种能避免杂质混入EL材料的系统。本发明的蒸发系统的特征在于衬底和蒸发源相对移动。即本发明的特征在于在蒸发系统中,蒸发源支架以一定间距相对于衬底移动或者衬底以一定间距相对于蒸发源移动,所述蒸发源支架安装有充有蒸发材料的容器。而且,本发明的特征在于容器被提纯的蒸发材料填充,并被运送,而后,容器被直接安装到作为淀积装置的蒸发系统中进行蒸发。
申请人: 株式会社半导体能源研究所
地址: 日本神奈川县厚木市
发明(设计)人: 山崎舜平 村上雅一
主分类号: H05B33/10
分类号: H05B33/10 H01L33/00 C23C14/24
  • 法律状态
2009-10-14  授权
2005-07-27  
2003-11-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种蒸发方法,包含: 连续沿衬底的X轴方向移动蒸发源支架,所述蒸发源支架安装有填充蒸 发材料的多个容器;以及 连续沿衬底的Y轴方向移动蒸发源支架, 其中,移动蒸发源支架以使其与蒸发材料的蒸发范围重叠。
公开号  1458811A
公开日  2003-11-26
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  吴立明 梁永
颁证日  
优先权  2002.5.17 JP 143822/2002
国际申请  
国际公布  
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