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三甲氧基硅烷的工业化制备方法
无权-未缴年费

申请号:03113359.2 申请日:2003-04-30
摘要:本发明公开了一种用HSICL3与CH3OH酯化反应获得三甲氧基硅烷的工业化制备方法,在该方法中,将酯化反应、排除HCL、蒸馏分离以及对低沸物的再酯化实施了循环、连续化生产;采用质量比和流量比(即体积比)的双重计量控制,确保两反应物间达到等摩尔匹配;使两反应物在专用高速反应泵中能充分搅拌、混合和酯化反应,反应后的混合物又被快速送入分离塔,将反应中产生的HCL迅速地排出,使得各种副反应和有害反应的产物降低到最低限度,使用本发明所述的制备方法,三甲氧基硅烷的收率达到70%~80%;其纯度达到99%;生产效率是现有制备方法的数倍。
申请人: 樊中华
地址: 213212江苏省金坛市河头镇莞塘村68号
发明(设计)人: 樊中华
主分类号: C07F7/02
分类号: C07F7/02
  • 法律状态
2010-07-28  未缴年费专利权终止IPC(主分类):C07F 7/02申请日:20030430授权公告日:20070103
2007-01-03  授权
2005-10-19  
2003-10-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种三甲氧基硅烷的工业化制备方法,包括HSICL3与CH3OH的酯化反应、 排除HCL和对酯化混合物的蒸馏分离等步骤,其特征是:在所述HSICL3与 CH3OH的酯化反应步骤中,采用质量比和体积比双重控制方法来实现两反应物 HSICL3与CH3OH的等摩尔数匹配,两反应物在专用高速反应泵(3)中充分搅 拌、混合和酯反应,反应后得的混合物输入分离塔(4),在分离塔(4)的底部 设有连续鼓泡的氮气管,分离塔(4)内的温度为恒温,其温度设定在50℃~80 ℃之间的任一数值;在对反应混合物的蒸馏分离步骤中,初级蒸馏塔(5)内的 温度设置在80℃~84℃之间,精细蒸馏塔(6)内的温度设置在84℃~120℃之间。
公开号  1450068
公开日  2003-10-22
专利代理机构  常州市维益专利事务所
代理人  周祥生
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期