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电子照相光电导体及其制造方法
无权-未缴年费
著录变更
权利转移

申请号:03110407.X 申请日:2003-04-11
摘要:本发明的目的是提供一种电子照相光电导体,它表现出良好的电子照相性能,尤其是高敏感性。本发明的另一个目的是提供一种制备该电子照相光电导体的方法,它包括用涂敷液形成表现出高敏感性的光敏层的步骤。本发明的电子照相光电导体包含含有光电物质的光敏层,其主要组分是金属酞菁化合物,其次要组分是具有中心元素氢的酞菁化合物。次要组分的含量为1μmol-200mmol,以1mol主要组分为基准。本发明的制造方法采用含有光电物质的涂敷液,所述光电物质包含金属酞菁化合物主要组分和含量为1μmol-200mmol的具有中心元素氢的酞菁化合物次要组分,以1mol主要组分为基准。
申请人: 富士电机影像器材有限公司
地址: 日本长野县
发明(设计)人: 佐佐木辉夫 铃木信二郎 中村洋一
主分类号: G03G5/04
分类号: G03G5/04
  • 法律状态
2014-06-04  未缴年费专利权终止IPC(主分类):G03G 5/06申请日:20030411授权公告日:20070411终止日期:20130411
2011-11-02  专利权人的姓名或者名称、地址的变更IPC(主分类):G03G 5/06变更事项:专利权人变更前:富士电机系统株式会社变更后:富士电机株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本神奈川县
2010-07-07  专利权的转移IPC(主分类):G03G 5/06变更事项:专利权人变更前权利人:富士电机电子技术株式会社变更后权利人:富士电机系统株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本 东京变更后权利人:日本东京登记生效日:20100527
2007-04-11  授权
2005-06-08  
2003-10-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种电子照相光电导体,它包括: 导电基板; 和形成在导电基板上的光敏层,该光敏层含有光电物质,所述光电物质 包含金属酞菁化合物主要组分和具有中心元素氢的酞菁化合物次要组分,以 1mol主要组分为基准,所述次要组分的含量是1μmol-200mmol。
公开号  1450414
公开日  2003-10-22
专利代理机构  上海专利商标事务所
代理人  朱黎明
颁证日  
优先权  2002.4.11 JP 2002-109357;2003.3.27 JP 2003-088341
国际申请  
国际公布  
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