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掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法
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申请号:03110354.5 申请日:2003-04-09
摘要:本发明的课题是,提供用于制造干涉条纹的发生少的光反射膜的掩模、使用该掩模的光反射膜、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的光反射膜的光学显示装置和具有干涉条纹的发生少的光反射膜的电子装置。使用以RGB点100~2,000个或整个画面为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的用于制造带光反射膜的基板的掩模,作成以RGB点100~2,000个或整个画面为一个单位使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的带光反射膜的基板。
申请人: 精工爱普生株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 大竹俊裕 松尾睦 露木正
主分类号: G02F1/1335
分类号: G02F1/1335 G02B5/08 G03F7/00
  • 法律状态
2016-06-15  专利权的转移IPC(主分类):G02F 1/1335登记生效日:20160527变更事项:专利权人变更前权利人:精工爱普生株式会社变更后权利人:京东方科技(香港)有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:中国香港
2016-06-15  专利权的转移IPC(主分类):G02F 1/1335登记生效日:20160527变更事项:专利权人变更前权利人:京东方科技(香港)有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:中国香港变更后权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
2005-11-23  授权
2003-12-31  
2003-10-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于制造带光反射膜的基板的掩模,其特征在于: 以100~2,000个点或整个画面为1个单位使光透过部或光不透 过部沿平面方向随机地排列。
公开号  1450392
公开日  2003-10-22
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  刘宗杰 王忠忠
颁证日  
优先权  2002.4.10 JP 108529/2002
国际申请  
国际公布  
进入国家日期