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掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法
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申请号:03110346.4 申请日:2003-04-09
摘要:本发明的课题是,提供用于制造干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电子装置。作成带光反射膜的基板,以比点区域的数目少的点部分为一个单位形成光透过部或光不透过部,并且在该单位内不规则地排列,同时使用包含多个该单位的掩模,使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等,同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状,并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
申请人: 精工爱普生株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 大竹俊裕 松尾睦 露木正
主分类号: G02F1/1335
分类号: G02F1/1335 G02B5/08 G03F7/00
  • 法律状态
2016-06-29  专利权的转移IPC(主分类):G02F 1/1335登记生效日:20160612变更事项:专利权人变更前权利人:京东方科技(香港)有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:中国香港变更后权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
2016-06-29  专利权的转移IPC(主分类):G02F 1/1335登记生效日:20160612变更事项:专利权人变更前权利人:精工爱普生株式会社变更后权利人:京东方科技(香港)有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:中国香港
2005-11-23  授权
2003-12-31  
2003-10-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模,其特 征在于: 具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过 部, 上述光透过部或光不透过部具有指定形状,该指定形状之间一部 分相互重叠。
公开号  1450391
公开日  2003-10-22
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  刘宗杰 王忠忠
颁证日  
优先权  2002.4.10 JP 108527/2002
国际申请  
国际公布  
进入国家日期