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优良的碱蚀刻加工性及冲压加工性的聚酰亚胺膜
有权
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申请号:02812205.4 申请日:2002-06-17
摘要:本发明的聚酰亚胺膜,其满足抗撕裂传播性偏差CH在1.0g以下的条件(1),及/或浸渍在碱溶液中之后的溶胀系数CR在20.0以下的条件(2)。通过满足这些条件,可以提高聚酰亚胺膜的加工性,在蚀刻时或冲压加工时,可有效防止加工不良的发生,提高各工序的生产效率。
申请人: 钟渊化学工业株式会社
地址: 日本大阪府大阪市
发明(设计)人: 小野和宏 藤原宽 赤堀廉一
主分类号: C08J5/18
分类号: C08J5/18 //C08L7908
  • 法律状态
2006-03-22  授权
2004-09-29  
2004-07-28  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种聚酰亚胺膜,其抗撕裂传播性偏差在1.0g以下。
公开号  1516718A
公开日  2004-07-28
专利代理机构  北京市柳沈律师事务所
代理人  张平元 赵仁临
颁证日  
优先权  2001.6.18 JP 184037/2001
国际申请  PCT/JP2002/006022 2002.6.17
国际公布  WO2002/102883 日 2002.12.27
进入国家日期  2003.12.18