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带电束装置、图形测定方法和图形描绘方法
无权-未缴年费

Charged beam apparatus, pattern testing method and pattern display method

申请号:02143258.9 申请日:2002-09-25
摘要:本发明提供一种不论样品的结构如何,总是稳定 地消除包含倍率误差的像畸变的带电束装置。在具有带电束生 成源10、聚光透镜12、偏转器14、物镜16的带电束装置1 中,具有调整供给物镜16的电流同时输出带电束EB聚焦在样 品20的表面上时的物镜16的焦点控制电流I1的焦点位置检测部28、检测样品表面高度的高度检测器51、根据检测的样品20的高度计算用于控制物镜16的电流Io的焦点控制信号运算部24、计算控制电流差ΔI(I1-Io)的焦点控制信号差值运算部32、根据控制电流差ΔI计算带电束EB的倍率变化量ΔMag的倍率变化量运算部34和根据倍率变化量ΔMag生成用于修正供给偏转器14的控制信号的偏转控制信号的偏转控制部36。
Abstract:
申请人: 株式会社东芝
Applicant: TOSHIBA KK[JP]
地址: 日本东京
发明(设计)人: 阿部秀昭
Inventor: HIDEAKI ABE[JP]
主分类号: H01J37/00
分类号: H01J37/00 G01B15/00 G01N23/225 H01L21/66
  • 法律状态
2011-01-19  未缴年费专利权终止IPC(主分类):H01J 37/00申请日:20020925授权公告日:20051123终止日期:20091026
2005-11-23  授权
2003-07-02  
2003-04-16  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.带电束装置的特征在于:具有生成带电束的带电粒子源、将该带 电束聚焦的聚光透镜、使上述带电束偏转而在样品上扫描的偏转单元、将 上述带电束聚焦到上述样品的表面上的物镜、检测上述样品的电位的变化 起因的由于上述带电束的焦点位置变化而发生的样品位置的假想的变化的 样品位置假想变化检测单元和补偿检测的上述样品位置的假想的变化量的 样品位置假想变化量补偿单元。
公开号  1411025A
公开日  2003-04-16
专利代理机构  北京市中咨律师事务所
代理人  于静 陈海红
颁证日  
优先权  2001.9.25 JP 291223/2001
 
国别 优先权号 优先权日 类型
JP  291223/2001  20010925 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
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  • 期刊对比文献
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