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具有防水窗口的研磨垫
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申请号:02105854.7 申请日:2002-04-11
摘要:本发明公开了一种具防水窗口的研磨垫,此研磨垫内及窗口周围填充一适当的吸水剂或疏水剂。在化学机械研磨期间,聚集于研磨垫的窗口表面上的水分或水汽将由吸水剂吸收或由疏水剂制止。因此,可防止或减少水分或水汽渗入研磨垫中及聚集在窗口表面,从而可延长研磨垫的使用寿命,并降低制作成本。
申请人: 旺宏电子股份有限公司
地址: 中国台湾
发明(设计)人: 郑志贤
主分类号: H01L21/304
分类号: H01L21/304 B24B7/22 B24B1/00
  • 法律状态
2006-02-01  授权
2003-12-31  
2003-10-22  公开
2002-07-31  
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于化学机械研磨工艺中研磨芯片的、具有防水窗口的 研磨垫,其特征在于至少包括: 一顶层,具有一研磨表面以与该芯片的一需研磨表面接触,该顶 层具有一第一孔洞; 一底层,邻接于顶层,底层具有一第二孔洞,第二孔洞同轴地对 齐第一孔洞,且第二孔洞的尺寸比第一孔洞的尺寸小; 一窗口,密封地设置于顶层的孔洞中,该窗口实质上为透明的; 一第一吸水区,设置于顶层中的窗口的周围,该第一吸水区内填 充有一第一吸水材料;以及 一第二吸水区,设置于底层的孔洞的周围,第二吸水区内填充有 一第二吸水材料,第二吸水区与窗口的一下表面部分地接触。
公开号  1450605
公开日  2003-10-22
专利代理机构  北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人  赵蓉民 王初
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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