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处理装置运转的监视方法
有权
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申请号:01812248.5 申请日:2001-07-03
摘要:本发明的运转监视方法,对预先成为基准的多个晶片(W)用检测器分别检测多个运转数据,用这些运转数据通过控制装置(10)进行主因素分析。而且,用由运转数据产生的主因素分析结果,评价等离子体处理装置(1)的运转状态。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 坂野真治 仙洞田刚士
主分类号: H01L21/3065
分类号: H01L21/3065 H01L21/205 C23C16/52
  • 法律状态
2005-04-13  授权
2003-12-31  
2003-10-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种运转监视方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器 检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,监视 该处理装置运转的方法,其特征为,用所述运转数据进行多变量分析, 评价处理装置的运转状态。
公开号  1451174
公开日  2003-10-22
专利代理机构  北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人  龙淳 沙捷
颁证日  
优先权  2000.7.4 JP 201729/2000;2000.7.4 JP 201731/2000
国际申请  PCT/JP01/05758 2001.7.3
国际公布  WO02/03441 日 2002.1.10
进入国家日期  2003.01.03