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用于抛光磁头浮动块的方法
无权-未缴年费
著录变更
权利转移

申请号:01103077.1 申请日:2001-01-22
摘要:本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤,在第二步中,第二速如此设置,使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
申请人: TDK株式会社 东京磁气印刷株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 樱田俊道 藤田恭敏 山口正雄 折井一也 斋藤军夫
主分类号: G11B5/187
分类号: G11B5/187 G11B5/60 G11B21/21 B24B39/00
  • 法律状态
2015-03-18  未缴年费专利权终止IPC(主分类):G11B 5/187申请日:20010122授权公告日:20050406终止日期:20140122
2008-08-06  专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)变更项目:专利权人变更前权利人:TDK株式会社 地址: 日本东京都; TMP株式会社 地址: 日本东京都变更后权利人:TDK株式会社 地址: 日本东京都; 株式会社凸版TDK标签 地址: 日本东京都登记生效日:2008.6.27
2005-12-28  <变更事项>专利权人<变更前>TDK株式会社<变更后>TDK株式会社
2005-12-28  <变更事项>地址<变更前>日本东京都<变更后>日本东京都
2005-12-28  <变更事项>共同专利权人<变更前>东京磁气印刷株式会社<变更后>TMP株式会社
2005-04-06  授权
2003-05-14  
2001-09-12  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于抛光磁头浮动块的方法,其中利用具有一抛光表面 的抛光板抛光磁头浮动块的多层元件端面,在所述端面上以多层结构 形成一薄膜磁头元件,所述方法包括: 借助于设置抛光板在第一速度下旋转以抛光磁头浮动块之多层 元件端面的第一抛光步骤,以及 借助于设置抛光板在等于或小于第一速度的第二速度下旋转以 抛光在第一抛光步骤中处理的磁头浮动块的多层元件端面的第二抛 光步骤, 其中,在第二抛光步骤中,第二速度被如此设置,使得沿抛光板 的旋转方向上的平均线速度等于或小于0.032米/秒。
公开号  1312545A
公开日  2001-09-12
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  肖春京 林长安
颁证日  
优先权  2000.1.28 JP 24804/2000
国际申请  
国际公布  
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