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如：A61B、H03F1/06 如：花生、计算机
| 分类号 | 含义 | ||||
| G | 物理 | ||||
| G03 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术 | ||||
| G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备 | ||||
| 1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |  |
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| 1/02 | .用模仿凸版制造原型的照相方法的 | |
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| 1/04 | .用拼版方法的 | |
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| 1/06 | .来自印刷表面的 | |
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| 1/08 | .原版带有无机成像层，例如，铬掩膜 | |
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| 1/10 | .通过曝光和水洗颜料或彩色有机层的;通过对高分子晶格染色的 | |
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| 1/12 | .通过对卤化银感光材料或重氮感光材料曝光的 | |
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| 1/14 | .以细部结构为特征的原稿，例如，基片层、覆盖层、薄膜环 | |
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| 1/16 | .原版带有窗孔的，例如，微粒平版印刷术 | |
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| 3/00 | 分色;色调值的校正 | |
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| 3/02 | .应用修版方法 | |
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| 3/04 | .应用照相装置 | |
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| 3/06 | ..应用蒙版 | |
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| 3/08 | .应用光电装置 | |
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| 3/10 | .检查分色负片或正片的彩色或色调值 | |
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| 5/00 | 网屏印刷法;其所用网屏 | |
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| 5/02 | .用投影方法 | |
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| 5/04 | ..改变网屏作用 | |
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| 5/06 | ..改变光阑作用 | |
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| 5/08 | ..应用线条网屏 | |
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| 5/10 | ..应用十字线网屏 | |
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| 5/12 | ..应用其他网屏，例如，粒状网屏 | |
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| 5/14 | .用接触方法 | |
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| 5/16 | ..应用灰色半色调网屏 | |
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| 5/18 | ..应用彩色半色调网屏 | |
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| 5/20 | .网屏用于照相凹版印刷 | |
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| 5/22 | .几个网屏组合;龟纹的消除 | |
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| 5/24 | .用多次曝光;例如，照相和网屏的联合方法 | |
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| 7/00 | 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备 | |
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| 7/004 | .感光材料 | |
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| 7/008 | ..叠氮化合物 | |
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| 7/012 | ...高分子叠氮化合物;高分子添加剂，例如，黏结剂 | |
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| 7/016 | ..重氮盐或化合物 | |
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| 7/021 | ...高分子重氮化合物;高分子添加剂，例如，黏结剂 | |
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| 7/022 | ..苯醌重氮 | |
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| 7/023 | ...高分子苯醌重氮;高分子添加剂，例如，黏结剂 | |
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| 7/025 | ..具有碳—碳三键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙炔化合物 | |
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| 7/027 | ..具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物 | |
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| 7/028 | ...含有增光敏物质的，例如，感光刺激剂 | |
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| 7/029 | ....无机化合物;类化合物;含杂原子而不含氧、氮、硫原子的有机化合物 | |
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| 7/031 | ....G03F 7/029组不包括的有机化合物 | |
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| 7/032 | ...含有黏结剂的 | |
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| 7/033 | ....通过反应而得到的仅包含碳—碳不饱和键的黏结剂聚合物，例如，乙烯基聚合物 | |
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| 7/035 | ....黏结剂是聚氨基甲酸酯 | |
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| 7/037 | ....黏结剂是聚酰胺或聚酰亚胺 | |
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| 7/038 | ..高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的 | |
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| 7/039 | ..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂 | |
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| 7/04 | ..铬酸盐类 | |
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| 7/06 | ..银盐类 | |
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| 7/07 | ...用于扩散转印的 | |
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| 7/075 | ..含硅的化合物 | |
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| 7/085 | ..以加速黏结的非高分子添加剂为特征的感光剂组分 | |
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| 7/09 | ..以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层 | |
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| 7/095 | ...具有1个以上的感光层的 | |
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| 7/105 | ...具有形成可见影像的物质的，例如，指示剂 | |
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| 7/11 | ...具有覆盖层或中间层的，例如，胶层 | |
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| 7/115 | ...具有基片层或具有可获得网屏效应的层以及在真空印刷中为获得更好地接触的层 | |
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| 7/12 | .网屏印刷模或类似印刷模的制作，例如，镂花模版的制作 | |
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| 7/14 | .珂罗版印刷模的制作 | |
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| 7/16 | .涂层处理及其设备 | |
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| 7/18 | ..弯曲面的涂层 | |
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| 7/20 | .曝光及其设备 | |
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| 7/207 | ..聚焦装置，例如自动地 | |
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| 7/213 | ..用同一光学图像使同一表面的不同位置上同时曝光 | |
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| 7/22 | ..用同一光学图像使同一表面的不同位置依次曝光 | |
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| 7/23 | ...相应的自动装置 | |
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| 7/24 | ..弯曲的版面 | |
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| 7/26 | .感光材料的处理及其设备 | |
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| 7/28 | ..为获得粉末影像的 | |
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| 7/30 | ..用液体消除影像的 | |
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| 7/32 | ...所用的液体成分，例如，显影剂 | |
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| 7/34 | ..用选择性转印去除影像的，例如，剥离 | |
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| 7/36 | ..G03F 7/30至G03F 7/34组中不包括的影像去除，例如，用气流、用等离子体去除影像 | |
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| 7/38 | ..去除影像之前的处理，例如，预烘干 | |
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| 7/40 | ..去除影像之后的处理，例如，烘干 | |
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| 7/42 | ..剥离或剥离剂 | |
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| 9/00 | 原稿、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地 | |
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| 9/02 | .与自动聚焦装置相结合的 | |
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